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落幕不散场,期待再相聚 - 2023 SEMICON展会回顾

2023-08-07

2023年6月29日-7月1日,为期三天的 2023 SEMICON CHINA 中国国际半导体技术大会落下帷幕。SEMICON / FPD CHINA是一个覆盖芯片设计、制造、封测、设备、材料、光伏、显示等全产业链携手合作,全球规模最大、最具影响力的半导体专业展。


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此次展会现场,德中(天津)精密装备有限公司向大家展示了高品质展品:电镀设备、晶圆化学镀设备、陶瓷超声波/兆声波清洗设备、化学蚀刻设备、晶圆RCA兆声波清洗设备、光刻胶除胶/显影设备、激光精密加工设备等,参展人员以真诚和热情服务每一位来宾,用专业的技术讲解向各位参展观众展示了公司实力和产品优势。


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2023 SEMICON CHINA 中国国际半导体技术大会已经圆满结束了,但我们的激情不会消退,我们将不断提高自己的硬件技术、软件技术及应用经验,致力于成为电子产品湿制程设备的领航者,期待与您下一次相见!


产品介绍(精密装备)


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德中DCT SIELP系列,主要应用于WLP工艺中的UBM (under bumping metallization) 和传统 WB (wire bonding) 技术中的OPM (over pad metallization) 层制作,即在晶圆或RDL层AL、Cu Pad上,采用化学镀工艺,镀覆一层焊接性能良好的Ni/Pd/Au金属层,用于BGA球形焊点形成或直接wire bonding。


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德中SICL系列是利用SPM、SC1、SC2、DHF和有机溶剂,与晶圆表面的杂质及油污发生化学反应或溶解作用,伴以超声、加热等物理措施,使杂质从晶圆表面脱附(解吸),然后用大量高纯热、冷去离子水冲洗,从而获得洁净表面。


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德中CS系列的超声波清洗设备用于PVD、PCVD前,对陶瓷、铁氧体、玻璃、蓝宝石、LED基板等进行清洁处理,确保基板表面洁净无污染。


德中CS系列设备超声波,可提供高空化效应的清洗方式,也可以提供高液体分子加速度的清洗方式,还可以提供两种方式相结合的清洗工艺。


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德中TP350/450/650系列电镀设备,采用独特的射流技术,适合陶瓷片、HTCC陶瓷管壳、铁氧体等电子基板挂镀,更加适合电子零件滚镀、晶圆凸点电镀。

 

射流电镀即工件作为阴极,浸泡在电镀液中的同时,电镀溶液从左、右两侧或底部强力喷射向阴极,有效均衡镀槽内各种离子浓度,提高电镀均匀性;对于滚镀,射流技术加强了滚筒内溶液与槽内溶液交换,打破滚筒网眼溶液表面张力,减少工件在网眼的贴附,有效解决滚镀中的“印子”问题。


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喷淋蚀刻设备:EU450V

EU450V是一款垂直、喷淋、往复传动蚀刻设备,基板专用夹具带动陶瓷,垂直进入蚀刻区,被雾化的蚀刻液从前、后两侧同时喷淋腐蚀,再经过水洗、风干,完成蚀刻。


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浸泡+抛动+溢流 蚀刻设备:EU350/450/650

基板放置在蚀刻夹具中,采用浸泡+溶液自下而上溢流+基板抛动方式进行蚀刻,适合多种薄膜金属层的蚀刻,如:Au、Cu、Cr、Ti-W、Ni、TaN等金属膜层。

 

陶瓷、玻璃、晶圆等基板被固定在装载夹具上,基板可以是圆形,也可以是方形,2英寸-8英寸均适用。装载夹具浸泡在蚀刻溶液中,蚀刻液自上而下涌动、溢流,基板抛动。


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浸泡+抛动+溢流 显影设备:DU350/450/650

基板放置在显影盒中(与蚀刻盒通用),采用浸泡+溶液自下而上溢流+基板抛动方式进行显影,适合多种光刻胶显影,如TMAOH等。

浸泡+抛动+溢流 除胶设备:SU350/450/650

SU系列适合多种除胶液,如丙酮、各种专用除胶液等,一般采用二步、或三步除胶法,配合超声波(选项)和专用除胶液,以便能彻底干净地将感光胶去除。


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德中DirectLaser系列激光设备高性能机台,按照高端应用需求配备的光学系统、移动系统、物料装载台,适合精密、微细加工,包括顶级数字扫描振镜与高精度远心透镜、精准摄像定位系统、无损线性移动系统、花岗岩基座、多用快速装载台,既适合重复性量产加工,又方便单件实验性探索。